一、設備用途及工藝條件簡述
1.1、設備用途:粉體材料在氧化性氣氛中的連續性燒成。
1.2、裝料方式:將物料裝于匣缽中,再將匣缽置于碳化硅移進板上,由輥棒傳動碳化硅移進板在窯內移動,坩堝雙排三層放置。
1.3、窯內氣氛:空氣。物料在燒成過程中會產生水蒸氣等少量廢氣,廢氣中不含腐蝕性成分。
二、主要技術參數及要求
2.1、 額定溫度: 900oC。
2.2、 常用溫度: 800oC。
2.3、 額定功率: 680 KW(全功率800KW)
2.4、 保溫功率: 450 KW(取決于物料及進氣量)
2.5、 供電電源: 380V
2.6、 加熱區數: 19區
2.7、 控溫點數: 19點
2.8、 加熱方式: 上下加熱
2.9、 加熱元件: 高溫電阻絲
2.10、控溫精度: ≤±1oC
2.11、截面溫差(恒溫段): ≤±8oC
2.12 爐膛尺寸(L×W×H): 40000×960×390mm
2.13、工作區尺寸(L×W×H): 40000×800×340mm
2.14、移進板尺寸(L×W×H): 400×400×12mm(需方自備)
2.15、坩堝 尺寸(L×W×H): 380×380×100mm(需方自備)
2.16、窯體外形尺寸約(L×W×H): 45000×3000×1800mm
2.17、傳送速度: 1000—2500 mm/h
2.18、常用速度: 1590mm/h
2.19、調速方式: 變頻調速
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